什么是氨逃逸率？

    氨逃逸率，一般來說，為SCR脫硝和SNCR脫硝工藝出口，未參與還原反應的NH3與出口煙氣總量的體積占比，一般計量單位為PPM,如果用質(zhì)量占比，則為mg/M3.也叫氨逃逸濃度。

    對于行業(yè)標準，一般有兩個解釋，分別如下：

    ①DL/T260-2012對氨逃逸濃度的解釋：煙氣脫硝裝置出口煙氣中氨的質(zhì)量和煙氣體積（標準狀態(tài)、干基、6%o2）之比，用mg/m3表示。
    ②DL/T335-2010<火電廠煙氣脫硝(SCR)系統(tǒng)運行技術規(guī)范.>氨逃逸率描述：在SCR脫硝反應器出口中氨的濃度，用UL/L表示。

    由于工藝的不同，測量地點稍有不同，一般來講，SCR的氨逃逸測量位置在SCR脫硝反應器出口，SNCR的氨逃逸測量位置在空氣預熱器之前。同時氨逃逸在線測量也有三種方法：①TDLAS激光原位安裝法（適合低含塵煙氣小于5克/m3）。②TDLAS激光抽取法(適合于高含塵煙氣大于20克/m3)。③抽取式化學分光法（僅適合于少量測量要求不高的場合、紙廠、化工廠、鋼鐵廠等）。

    山東新澤儀器有限公司生產(chǎn)的TK-1100型氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術+TDLAS技術(可調(diào)諧半導體激光光譜吸收技術），對脫硝過程中的逃逸氨進行連續(xù)在線監(jiān)測，主要應用于眾多工業(yè)領域氣體排放監(jiān)測和過程控制，如燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。

    產(chǎn)品特點：

    1.先進的可調(diào)諧半導體激光光譜吸收技術；
    2.可靠的長光程加熱氣室設計，光程可達760mm；
    3.超低濃度測量，分辨率可達0.1ppm；
    4.半導體激光的譜寬小于0.001nm，避免粉塵和水分交叉干擾；
    5.設備維護簡單，使用成本低。